“中芯”传来好消息，“破冰行动”已经开始

原标题：“中芯”传来好消息，“破冰行动”已经开始 来源：陌年微凉爱音乐

不可否认，在全球技术发展的历史上，我国一直扮演着追随者的角色。

以通信和互联网为例，我国目前拥有世界上最受专利保护的5G技术，并拥有在第五代通信革命中的绝对发言权。

在互联网领域，我国目前的电子商务，在线汽车租赁或其他新兴产业的发展基本上可以与美国相提并论。

但是，需要知道的是，尽管目前的技术已经取得了理想的成绩，但是芯片的开发受到人们的限制，这也是我们应该关注的问题。

通常，芯片生产包括两个主要环节，一个是芯片架构设计，另一个是芯片制造。

尽管光刻机在芯片制造过程中的重要性是不言而喻的，但光刻胶也是光刻机必不可少的一部分，它也是微电子技术中微图案加工的关键材料之一。

但是，困扰芯片设计的不是设计，而是制造。尤其是，光刻机是芯片制造过程中必不可少的设备，已经成为征服“中芯”的主要问题。

近日还有媒体报道：

最近，作为一家中国半导体公司，南大光电在光致抗蚀剂领域收到了好消息。

据了解，目前国产的ArF光刻胶已经取得了重大突破，可以在22nm工艺中使用，并将很快进入批量生产和销售阶段。

但是，这也意味着中国公司在光刻机市场上取得了重大突破。作为光刻设备的重要材料之一，光致抗蚀剂的成功自主研发也将对促进中国光刻机领域的全面发展发挥积极作用。

实际上，以前的全球光刻胶市场基本上由美国和日本主导，它们在全球市场的份额曾经达到90％以上，从而垄断了整个市场。

此外，全球光刻胶市场排名前五位的公司中有四家来自日本，第五位来自美国。因此，南大光电生产ArF光刻胶也意味着中国正在研发光刻机领域。实际上，所需的光刻胶材料不必局限于人。

华为花了10年的时间才能突破芯片架构设计的瓶颈，而光刻机的制造是一项艰巨而高精度的工作。

在短时间内取得突破并不容易，因此对于中国来说，一点一点地征服，一点一点的积累最终将打破美国，日本等国家在芯片设计和制造领域的技术封锁。你怎么看待这件事？

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