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投资者提问：
尊敬的董秘您好，请问公司的光刻机和荷兰ASML公司的光刻机有何区别？工艺是多少nm?
董秘回答(苏大维格SZ300331)：
您好，公司目前拥有的光刻设备可用于微纳光学材料、柔性电子、MEMS传感器以及特定领域半导体等产品的研发与制造，不涉及芯片领域的研发与制造，感谢您的关注，谢谢！
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