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投资者提问：
自主研发方面，公司光刻机从设计、组装以及所用软件的开发，均由本公司自主完成，主要用于柔性电子、MEMS以及半导体上游器件等产品的研发与制造？属实？
董秘回答(苏大维格SZ300331)：
您好，感谢您对本公司的关注。公司通过自主研发制造高端微纳装备光刻机，自制微纳结构模具，进行微纳结构产品生产，光刻机设计、组装以及所用软件的开发，均由本公司自主完成。公司的微纳光刻直写设备主要用于柔性电子、MEMS以及特定领域半导体等产品的研发与制造，具有非接触、自动对准套刻、支持翘曲衬底图形光刻的先进功能，尤其为今后超颖材料、裸眼3D显示、光子晶体、半导体功率芯片、MEMS等研发和制备等方面，提供了前沿性和实用性纳米光刻工具。感谢您的关注！
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