投资者提问:
请问公司最新申请的光刻胶高阶制程的专利是公司自主研发的技术吗?公司是否已经全面可实现低中高制程的产品的技术?
董秘回答(南大光电SZ300346):
感谢您的关注!公司在实施“ArF光刻胶研发与产业化项目”过程中,为保护公司知识产权,会根据研发进展申请相关专利,这些专利都是公司自主研发的技术。 目前“ArF光刻胶研发与产业化项目”正在顺利推进,计划2020年底前通过专家验收。ArF(193nm)光刻胶属于高端光刻胶,技术门槛高于中低端光刻胶,生产工艺可以往中低端延伸。
免责声明:本信息由新浪财经从公开信息中摘录,不构成任何投资建议;新浪财经不保证数据的准确性,内容仅供参考。
热门推荐
收起
新浪财经公众号
24小时滚动播报最新的财经资讯和视频,更多粉丝福利扫描二维码关注(sinafinance)