专利摘要显示,本发明公开了一种光栅生产工艺,属于光栅生产技术领域;包括如下步骤:S1在玻璃上涂覆光刻胶并烘干;S2对光刻胶层进行曝光;S3对所述光刻胶层进行负显影工艺,即制得所述光栅;所述涂覆光刻胶工艺采用涂覆装置,所述涂覆装置包括底座、设置在所述底座顶部的工作台,设置在所述工作台上方的喷涂部,驱动所述喷涂部分别沿着所述工作台长度方向和宽度方向进行位移的第一驱动装置和第二驱动装置,以及驱动所述工作台在所述底座内沿着自身长度方向和宽度方向进行位移的第三驱动装置和第四驱动装置;通过上述装置的协同作用,能够显著提高光刻胶的均匀性,改善旋涂法以及单独采用上述喷涂部喷涂造成的不均匀问题。
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