打破美日垄断,我国高端光刻胶迎首条生产线!可用于7nm芯片制造

打破美日垄断,我国高端光刻胶迎首条生产线!可用于7nm芯片制造
2020年11月14日 11:23 金十数据

自从美国接二连三在半导体领域发起出口限制,我国半导体国产化进程也备受关注。而事实上,当前我国在半导体的设计、封测以及制造三大关键程序已有了初步的发展。近日,芯片生产的关键材料——光刻胶领域迎来了一则好消息,预计将对我国7nm芯片生产带来重大突破。

我国高端光刻胶依赖进口,美日企业垄断95%份额

据新浪财经11月13日最新报道,我国宁波南大光电材料有限公司(以下简称“南大光电”)公开宣布,该司首条ArF光刻胶生产线已正式投产,估计项目完全达产后年销售额将达10亿元。目前南大光电已将这款ArF(193nm)光刻胶的样品已经送到客户手上进行测试,预计将会收到更多订单。

资料显示,光刻胶是生产制造集成电路的核心材料,主要起到将作用“将设计的图像从模板中转移到晶圆表面合适的位置”的作用。因此,光刻胶的质量和性能对芯片最终的成品、性能等具有重要影响。要知道,虽然我国不乏光刻胶生产企业,但是主要都集中于G线(436nm)、I线(365nm)等低端品种,ArF光刻胶等高端种类几乎100%依赖进口。

2019年,我国光刻胶市场本土企业的销售规模达到70亿元,在全球占据了约10%的市场份额。然而,若进一步划分到高端市场,就会发现,当前全球高端光刻胶制造有95%集中在美国和日本企业手上,日本信越化学、东京日化等企业在这其中尤为突出,垄断了将近90%高端光刻胶市场。

打破垄断!中企纷纷“发力”,还重金买下二手光刻机

意识到我国在高端半导体材料领域的不足,近年来我国企业晶瑞股份上海新阳以及上文提及的南大光电也在积极钻研,试图打破美日企业的垄断。其中,早在2017年,南大光电就将“ArF193nm光刻胶项目”的开发提上日程。另外,晶锐股份则选择了借用“外力”发展高端光刻胶。

今年9月下旬,晶瑞股份发布了一则令业界“为之沸腾”的消息,该司将通过代理商(Singtest Technology PTE.LTD.)从韩国半导体生产商SK海力士(SK Hynix)手上购买一台ASML光刻机设备。业内人士指出,这台光刻机的总价值约为1102.5万美元(折合约7523万元人民币),是一台“二手货”。按照计划,晶瑞股份将此工具用于高端光刻胶的生产。

要知道,ArF光刻胶对28nm到7nm工艺的芯片生产具有关键作用。而截至目前,我国最大的芯片代工商——中芯国际最先进的芯片制程也才达到了14nm。考虑到美国自9月中旬就颁布了芯片配件的出口新规,再加上荷兰巨头ASML的EUV光刻机迟迟未到货,中芯国际的芯片制程发展也受到一定束缚。

如今,我国供应商在光刻胶领域取得重大突破,意味着中芯国际在半导体材料供应商又多了一层保障,恐怕届时美国的计划也没法完全得逞。

文 |廖力思 题 | 曾艺 图 |饶建宁 卢文祥 审 |廖力思

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