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中芯国际12英寸厂采用90纳米工艺


http://finance.sina.com.cn 2006年06月23日 05:43 中国证券报

  本报记者 李少林

  芯片制造企业中芯国际日前宣布,公司已经获得日本客户尔必达(Elpida)旗下90纳米512Mb DDRII认证,预计此类产品将于中芯国际北京12英寸晶圆厂投产。这是中芯国际北京12英寸厂获得的第一个采用90纳米工艺的客户。

  此前,业界一直质疑中芯国际是否有足够的技术支撑自己不断扩张的产能。据悉,除在北京投建12英寸芯片生产线外,中芯国际还将在武汉投建一条12英寸生产线。分析人士曾认为,如果中芯国际不能获得客户的90纳米或者60纳米工艺认证,中芯国际将无法保证足够的订单来满足两条12英寸生产线的运营。

  此次获得日本尔必达(Elpida)旗下90纳米512Mb DDRII认证对中芯国际无疑是个良好的开端。目前中芯北京12英寸厂,在正式通过尔必达90纳米工艺512Mb DDRII认证后,接下来便会快速进行投产,据了解,该座12英寸厂,目前约有2万片左右的产能用于投产DRAM。

  预计在全球DRAM产业日趋稳定的前提下,中芯国际会不断加重标准DRAM的产量来填充12英寸厂不断开出的产能。


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