买下ASML光刻机,中国公司迎来突破,有望攻克芯片制造的难题

买下ASML光刻机,中国公司迎来突破,有望攻克芯片制造的难题
2021年04月01日 04:35 腾讯新闻

原标题:买下ASML光刻机,中国公司迎来突破,有望攻克芯片制造的难题 来源:腾讯新闻

受众所周知的原因影响,中国企业从海外进口半导体设备限制太多,因此不少公司都另辟蹊径,利用其它渠道从二手市场购买相关产品。

也正因为国内半导体产业的自研热情高涨,近年来二手市场中半导体设备的价格屡创新高。但即便如此,中国企业依旧在想方设法购入二手设备,为中国半导体产业的破局做力所能及的贡献。

其中,一家光刻胶制造企业,就在技术和产品研发上取得了新的突破。

3月30日,在2020年业绩说明会上,晶瑞股份的董事长吴天舒公布,该公司的KrF(248nm深紫外)光刻胶已经完成中试。

这类产品的分辨率达到0.25--0.13μm的技术要求,该公司已经建成了相关中试示范线。

笔者还了解到,晶瑞股份的紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分g线等高端产品已向市场规模供应数十年,i线光刻胶更成功打进中芯国际等企业的供货体系。

而更高端的ArF光刻胶目前正处于研发过程中。此前,晶瑞股份购买的那台ASML光刻机,就是被应用于ArF高端光刻胶的研发。

2020年,晶瑞股份通过特殊渠道,购入一台二手ASML XT 1900 Gi型光刻机。2021年1月中旬,这台光刻机已经成功被搬进公司高端光刻胶的研发实验室。

这台光刻机虽然是二手货,而且还不是EUV光刻机,但精度已经达到了晶瑞股份研发高端ArF光刻胶的要求。

有了这台光刻机,笔者相信以晶瑞股份的研发实力,中国芯片制造领域,在高端光刻胶上被卡脖子的难题有望被攻破。

对于光刻胶,或许很多读者还不太了解。光刻胶与光刻机有一字之差,但同样是芯片制造过程中必不可少的东西。

作为制造芯片时的重要原材料,光刻胶可以起到缩短曝光波长、提高极限分辨率的要求。

而且,光刻胶对于纯度的要求非常高,制造工艺更是复杂,需要相应的光刻机进行配对调试。这也是晶瑞股份为何坚持购入二手ASML光刻机的原因。

受历史因素影响,KrF和ArF两类高端光刻胶的核心技术,目前尚被掌握在日本和美国企业手中,中国只能依赖进口。

如果晶瑞股份等企业,能够利用二手光刻胶打破日美企业的垄断,实现KrF和ArF高端光刻胶的国产化,我国在芯片制造业将因此掌握更多的话语权。

文/谛林 审/QKF

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