国内首台无掩膜光刻机合肥下线

　　记者王永群合肥报道芯硕半导体（中国）有限公司日前对外正式宣布，由其自主研发的首台具有世界先进水平、拥有自主知识产权的无掩膜（直写式）光刻机在合肥面世。中国工程院院士张钟华、叶声华带队的专家鉴定组在鉴定后认为，该成果在国际同类产品中处于先进水平，分辨率已经达到亚微米，性能稳定可靠，填补了国内光刻机在该领域的空白。

　　据研发公司负责人介绍，首台光刻机下线后，将在今年6月至9月进行批量生产，预计年产量在100台左右，这一产量将占据世界光刻机市场30％以上的份额，其中产品60％将用于出口。

　　据了解，光刻机是生产半导体芯片的最关键设备，目前我国半导体设备业是半导体和集成电路产业链中最薄弱的环节之一。无掩膜光刻机与国际同类产品相比在兼顾了高产能与高分辨率的同时，极大降低了使用成本，且应用范围十分广泛。