我国首台亚微米无掩膜光刻机在合肥面世

　　1月11日，我国首台亚微米无掩膜（直写式）光刻机通过科技成果鉴定，在安徽合肥成功面世。此项技术填补了国内光刻机在该领域的空白，并且在国际同类产品中处于领先水平。

　　鉴定组专家一致认定该机分辨率已经达到亚微米，性能稳定可靠，该无掩膜（直写式）光刻机与国际同类产品相比，在兼顾了高产能与高分辨率的同时，极大地降低了使用成本，且应用范围广，比国际同类产品不仅可应用于半导体行业，还可广泛应用于生物、医药、光电、太阳能电池、新能源及薄膜电路等不同领域，其最大特点在于亚微米级的分辨率、高产能、操作便捷、运行成本低。据介绍，这种无掩膜（直写式）光刻机将于今年8月份投入批量生产，其中60%左右的产品将针对海外市场。

　　无掩膜（直写式）光刻机的成功面世不仅打破了中国没有能力生产自己的亚微米级直写式光刻机的局面，同时也为中国半导体设备制造技术的提高打下坚实的基础，对中国微电子产业的发展具有重大的社会意义和经济价值。