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2006年元月9日，2005年度国家科学技术大会在北京人民大会学隆重开幕，胡锦涛，吴邦国，温家宝等国家领导人出席大会祝贺，并给获奖项目颁奖。武汉邮电科学院光迅公司研发生产的“实用化介质膜滤光片型DWDM器”荣获国家科学技术进步奖二等奖。
介质膜窄带滤光片加微光透镜耦合方式的DWDM是目前较富竞争力的器件。介质膜窄带滤光片制作工艺极其成熟。它除透过率高、带宽窄外，其中心波长——温度系数可小于1p
m/℃，甚至在0－80℃温度范围内波长无漂移。DWDM系统市场的日益增长也使介质膜窄带滤光片的批量成本降低。另外，这种方案还可利用成熟的微光透镜耦合技术。由于性能及成本上的优势，介质膜窄带滤光片型器件在波长间隔为100 GHZ以上的DWDM系统中早已为市场所普遍接受。近年来，由于interleaver技术的成熟，100 GHZ的介质膜窄带滤光片型器件也普遍用来制作50 GHZ波长间隔的复用/解复用器。
根据美国KMI公司Neil G. Dunay预测，在今后5年里，DWDM系统的市场需求将以年均23%增长率增长，到2004年将达到74亿美元。
武汉光迅科技有限责任公司2000年承担了国家“863计划”研究项目《介质膜滤光片型DWDM器件研究》完全依靠自己的技术力量，经过一年的努力，研制成功4×200 GHZ、8×200GHZ、32×100 GHZ、40×100 GHZ、160×50 GHZ DWDM器件，除满足国内需求外，并在此派产生200 GHZ、100 GHZ单信道和双信道OADM器件，国内率先批量投放市场，70%出口北美、欧洲及日本，国内市场占有率达70%，国际市场占有率20%，累计销售额2亿元，创汇1500余万美元。项目申请授权专利2项，申请授理发明和实用新型专利4项。以此项目为基础，起草了一项国家标准和两项行业标准。具有自主知识产权。
该项目荣获2004年度中国通信学会科技进步一等奖，经过层层选拔、推荐评审，最终荣获此次国家科技进步二等奖。
目前，武汉光迅公司已建成一条年生产能力12万信道DWDM器件生产线，成为该公司出口的重点产品，也是光迅公司一个新的经济增长点。
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