日经指数2日开盘温和走高 | |||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
http://finance.sina.com.cn 2004年09月02日 08:38 世华财讯 | |||||||||
[世华财讯]受那斯达克科技股上涨带动,日经指数2日开盘温和走高。 综合外电9月2日报道,日经指数2日开盘温和走高,蓝筹科技股尤其是晶片制造商股在前夜那斯达克股市上扬后走强。 交易员们预计,由于投资者在等待英特尔公司公布盈利预期、美国就业数据以及其他
日经指数目前升56点至11183点。 (龚山美 编辑) 免责声明:本文所载资料仅供参考,并不构成投资建议,世华财讯对该资料或使用该资料所导致的结果概不承担任何责任。若资料与原文有异,概以原文为准。世华财讯信息部:editor@shihua.com.cn电话:010-58022299转235 |