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日经指数20日开盘小幅走低但上档压力沉重


http://finance.sina.com.cn 2006年04月20日 08:21 世华财讯

  受前夜美国科技股走高推动,日经指数20日开盘小幅走低,但指数上档压力沉重。

  综合外电4月20日报道,日经指数20日开盘小幅走低。但看起来日经指数上档压力非常沉重,现货及期货均低于在芝加哥交易的日经指数期货收盘点位(为17460点)。

  北京时间08:20,日经指数上涨25点,报17375点。东证指数上涨2.92点,报1750.2
4点。

  许多科技及出口蓝筹股受前夜美国科技股走高推动上涨。

  晶片相关类股(如爱德万测试(6857.TO)、东京电子(8035.TO)涨跌互见。

  (龚山美 编辑)


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