日经指数20日开盘小幅走低但上档压力沉重

http://finance.sina.com.cn 2006年04月20日 08:21 世华财讯

　　受前夜美国科技股走高推动，日经指数20日开盘小幅走低，但指数上档压力沉重。

　　综合外电4月20日报道，日经指数20日开盘小幅走低。但看起来日经指数上档压力非常沉重，现货及期货均低于在芝加哥交易的日经指数期货收盘点位（为17460点）。

　　北京时间08:20，日经指数上涨25点，报17375点。东证指数上涨2.92点，报1750.2

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4点。

　　许多科技及出口蓝筹股受前夜美国科技股走高推动上涨。

　　晶片相关类股（如爱德万测试(6857.TO)、东京电子(8035.TO)涨跌互见。

　　(龚山美编辑)

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