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北京2006-02-24(中国商业电讯)——日前，在于日本举办的“International Display Workshops 2005（IDW2005）-国际显示论坛2005中，国内规模最大的的TFT-LCD研发制造商——京东方科技集团股份有限公司(000725)提交的技术论文获得“杰出成就奖”。
京东方的获奖论文名为“低阻抗的铝镍合金在单层栅电极中的应用”。该论文介绍了以低阻抗的单一配线材料技术，对原来的3层技术进行了划时代性的工程改进，该技术应用
于TFT-LCD制造上将有效降低制造成本，并能开发出更高附加值新型产品。
此次获得IDW2005杰出成就奖表明，京东方在TFT-LCD领域的技术水平再次得到业界的高度认可。在TFT-LCD领域，京东方是国内唯一拥有自主知识产权和核心技术的企业。长期以来，京东方致力于不断开发领先的显示技术，拥有自主研发的AFFS宽视角专利技术，是全球少数掌握ODF技术和DLC/IB技术的企业之一。目前，京东方在TFT-LCD领域具有3000余项专利技术，并保持着每月新增20余项专利的技术创新速度，日立等国际知名公司已与京东方签订了专利互换许可协议。同时京东方的显示产品已得到全球客户的高度认可，众多全球知名IT和家电厂商都是京东方的客户，应用京东方AFFS宽视角技术的产品已占有全球平板电脑70％以上的市场，医用专用显示40％的市场。
IDW是每年12月在日本举办的亚洲最大的显示领域学术会议。IDW2005上，来自全球的显示器件制造商共发表了200多篇论文，包括京东方在内，共有25篇论文获得了“杰出成就”奖。
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